我公司專注于高溫難熔融材料的真空噴涂技術(shù)，打破技術(shù)壁壘和難題，自主研發(fā)出具有世界先進水平的靶材真空噴涂生產(chǎn)線，我公司生產(chǎn)的靶材，經(jīng)國家有色金屬及電子材料分析測試中心檢測，各項指標均達到和超過世界高端靶材的水平;經(jīng)國內(nèi)多家知名鍍膜企業(yè)使用，反應(yīng)良好。我公司靶材真空噴涂生產(chǎn)線和靶材產(chǎn)品具有如下技術(shù)核心與創(chuàng)新點：
一、技術(shù)核心：
1、 我公司采用了自主研發(fā)的超高溫、大功率等離子噴涂槍，更為有效的融熔了高溫難熔金屬、陶瓷粉末材料，焰流速更快，使靶材的晶界結(jié)合更致密、晶粒更細 、孔隙更少、密度更高。
2、 靶材制備過程始終處于“真空”環(huán)境，區(qū)別于國內(nèi)所有靶材的大氣噴涂制備過程的常規(guī)技術(shù)，杜絕了氣相雜質(zhì)的產(chǎn)生，使靶材的成分、純度得到有效保證。
3、 在靶材熱噴涂制備過程中，等離子槍焰流中科學(xué)配注了還原氣體，使材料在熱熔、冷卻過程中具備充分的還原性，保證材料的物化性質(zhì)不發(fā)生改變。
4、 采用密閉循環(huán)水冷卻控制系統(tǒng)，使靶材在熱噴涂過程中，有效控制了靶材的溫度，噴涂完成后按設(shè)定要求梯度降溫，釋放了靶材的材質(zhì)內(nèi)部應(yīng)力，消除了客戶在濺射制程中的靶材開裂隱患。
二、創(chuàng)新點
1、 靶材密度更高、晶粒更細、分布更混勻、內(nèi)部孔隙率更少，用戶使用過程中消耗均勻、使用壽命同比延長、鍍膜膜層更加致密。
2、 靶材純度更純，氧、氮含量更低，保證了靶材材質(zhì)的純正性，使用戶的濺射氣氛更加可控，確保了膜層的高品質(zhì)。
3、 靶材材料內(nèi)部內(nèi)應(yīng)力更小，杜絕了客戶在使用升溫過程中，靶材的開裂、掉渣、污染濺射真空腔的現(xiàn)象。
4、 導(dǎo)電率更均勻、更平穩(wěn)，使客戶在濺射鍍膜過程中，靶材放電過程更加充分，保證了設(shè)備電流、電壓的穩(wěn)定，杜絕了靶材中毒事故，鍍膜膜層更加均勻致密。
掃一掃關(guān)注公眾號
CN
EN